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抛光液专用硅溶胶
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HOMSOL® LJ5040
抛光液专用硅溶胶
产业背景
随着半导体、先进封装、光学元件等精密制造行业发展,化学机械抛光(CMP)对磨料的粒径均匀性、纯度和分散稳定性要求极高。纳米二氧化硅是 CMP 抛光液的核心磨料之一。
客户需求
磨料粒径均匀、分布窄,保证抛光一致性
高纯度,避免金属离子污染晶圆或精密基板
高硬度,实现高效材料去除
适配不同工艺阶段的抛光要求(粗抛 / 精抛)
推荐型号
HOMSOL® LJ5040
固含量:40%,粒径:50nm,pH值:9.0-10.5
若您对不同牌号产品的差异或应用有疑问,
欢迎联系凌玮专家,我们将为您提供专业解答与个性化方案。
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